1. 國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了

              2023/9/15 16:38:56??????點(diǎn)擊:

              光刻膠是光刻機(jī)生產(chǎn)、芯片生產(chǎn)的核心原材料之一,其作用是用于抗腐蝕涂層材料。雖然我國(guó)也能生產(chǎn)光刻膠,但在高端光刻膠領(lǐng)域,我們依然依賴于進(jìn)口。

              據(jù)悉,在高端光刻膠領(lǐng)域,日本占據(jù)了全球市場(chǎng)的75%,掌握了高端光刻膠的絕對(duì)話語權(quán)。反觀國(guó)內(nèi)的高端光刻膠市場(chǎng)份額就比較寒酸,讓人有些難過。

              國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了


              以ArF光刻膠為例,這種光刻膠用于14nm至130nm的芯片、光刻機(jī)上,但我國(guó)的ArF光刻膠的國(guó)產(chǎn)自給率僅為1%,因此我國(guó)需要從日企購(gòu)買ArF光刻膠。

              值得慶幸的是我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,多項(xiàng)技術(shù)實(shí)現(xiàn)突破,這其中就包括光刻膠的突破。據(jù)悉,國(guó)內(nèi)光刻機(jī)公司南大光電已經(jīng)開發(fā)出多款A(yù)rF光刻膠,這些光刻膠制程覆蓋到28nm—90nm,并且這些光刻膠得到下游合作伙伴的驗(yàn)證。

              國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了


              換言之,在ArF光刻膠領(lǐng)域,我國(guó)突破了1%的自給率,這對(duì)我國(guó)光刻機(jī)、芯片的發(fā)展起到促進(jìn)作用。

              雖然在高端光刻膠領(lǐng)域,我國(guó)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了1%自給率的突破,但在高端EUV光刻機(jī)領(lǐng)域,我們的進(jìn)展依然為零。面對(duì)這種奇怪的現(xiàn)象,一些關(guān)心國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的用戶提出了自己疑問:難道國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠名不副實(shí)嗎?對(duì)于這個(gè)問題,我認(rèn)為我們要這樣看。

              國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了


              首先是光刻膠的種類有很多,ArF光刻膠只是光刻膠的一種。據(jù)悉,光刻膠可分為5類,分別是EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠、g線光刻膠、i線光刻膠。

              其中EUV光刻膠生產(chǎn)難度最大,技術(shù)含量最高。而7nm的EUV光刻機(jī)就遠(yuǎn)EUV光刻膠。目前南大光電的光刻膠還停留在ArF光刻膠階段,離EUV光刻膠還有不小的差距。

              國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了


              其次是南大光電的ArF光刻膠還在試驗(yàn)階段,離量產(chǎn)上市還有一段距離。雖然南大光電的ArF光刻膠得到下游合作伙伴的驗(yàn)證。但這種驗(yàn)證并不完善,離量產(chǎn)上市還有不小距離。而且一款新材料從試驗(yàn)階段到量產(chǎn)上市也需要很長(zhǎng)一段時(shí)間,短則1、2年,長(zhǎng)則10年、20年。

              由此可見,南大光電的ArF光刻膠在目前的光刻機(jī)、芯片研發(fā)上沒有太大作用,這是當(dāng)下不得不承認(rèn)的現(xiàn)實(shí)。

              國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了


              再者是光刻機(jī)、芯片的研發(fā)生產(chǎn)對(duì)光刻膠的材質(zhì)要求非常高。比如一些高端DUV光刻機(jī)對(duì)光刻膠的覆蓋要求達(dá)到14nm,而南大光電的ArF光刻機(jī)覆蓋范圍為28nm—90nm。試問這種光刻膠如何能滿足高端DUV光刻機(jī)的研發(fā)、生產(chǎn)呢?

              國(guó)產(chǎn)光刻膠自給率突破1%后,一個(gè)奇怪的現(xiàn)象出現(xiàn)了


              最后是光刻機(jī)、芯片的研發(fā)是一項(xiàng)非常復(fù)雜的事情,僅靠光刻膠的突破無法解決問題。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的組裝需要十幾萬個(gè)零部件,每一個(gè)零部件生產(chǎn)背后都是全球最頂級(jí)公司的技術(shù)支撐。

              所以南大光電的ArF光刻膠的技術(shù)突破并不能解決光刻機(jī)、芯片的研發(fā)生產(chǎn),而只是加快光刻機(jī)、芯片研發(fā)生產(chǎn)的進(jìn)程。

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              寫在最后

              自從華為遭受老美打壓后,國(guó)人對(duì)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)、國(guó)產(chǎn)芯片的發(fā)展極為關(guān)注。但凡光刻機(jī)、芯片的某項(xiàng)技術(shù)實(shí)現(xiàn)突破,網(wǎng)絡(luò)上就掀起了一股‘厲害了’‘碾壓其他公司’的言論。

              一旦這些技術(shù)無法改變國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)、國(guó)產(chǎn)芯片的處境,那么網(wǎng)絡(luò)上就對(duì)這些技術(shù)嗤之以鼻,甚至是責(zé)罵。

              任何尖端設(shè)備的研發(fā)成功是數(shù)以萬計(jì)技術(shù)的突破,靠一項(xiàng)、十幾項(xiàng)技術(shù)突破無法改變現(xiàn)狀。所以網(wǎng)友們還是少一點(diǎn)自大,多一點(diǎn)低調(diào),唯有如此,我們才能營(yíng)造良好科研環(huán)境。更多濾芯膠請(qǐng)?jiān)L問www.googleadsenseguru.com

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